Recent, informațiile despre avansul tehnologic al Chinei în domeniul litografiei EUV (ultraviolet extrem) au ieșit la iveală, ce indică o apropiere semnificativă față de o tehnologie considerată esențială pentru fabricarea celor mai performante cipuri din lume. Acest progres a fost descoperit într-un laborator secret din Shenzhen, unde a fost construit un prototip de echipament EUV, aflat în faza de testare, demontând astfel percepția că Occidentul deține monopolul în această tehnologie.

Pentru înțelegerea impactului, trebuie să știm de ce EUV este numită „butonul” controlând viitorul semiconductorilor. Aceasta permite crearea de circuite ultrafine, de ordinul miilor de ori mai subțiri decât un fir de păr, asigurând cipuri mai rapide și eficiente. Deși Occidentul a monopolizat până acum această tehnologie, restricțiile asupra China au stimulat eforturi de dezvoltare internă.

Prototipul din Shenzhen, realizat prin reverse-engineering și utilizând piese recuperate, prezintă un pas major în capacitatea Chinei de a produce echipamente EUV autonome. Însă, provocarea principală rămâne în evoluția componentelor de optică și a tehnologiilor ultra-specializate, standarde dificil de replicat rapid.

Guvernul chinez mizează pe 2028 ca termen pentru fabricarea primelor cipuri funcționale, însă experții consideră că o dată mai realistă este anul 2030. Acest avans ar putea avea multiple efecte geopolitice și industriale, reducând dependența de tehnologia occidentală și consolidând poziția industriei chineze pe piața globală a semiconductoarelor.

În concluzie, progresul Chinei în tehnologia EUV relevă un efort accelerat de a reduce decalajul tehnologic. Continuu, monitorizarea acestor evoluții este esențială, având în vedere implicațiile economice și geopolitice ale avansului în domeniul semiconductorilor.